Ito表面化學鍍鎳鍍金前表面清潔的方法
【專利摘要】一種在ITO表面化學鍍鎳鍍金前表面清潔的方法，其特征是將氟化銨、氟化氫銨及緩沖劑按一定比例混溶于去離子水中配成清潔溶液，基片用夾具裝夾后浸沒于清潔溶液中，根據基片表面污染程度選擇合適的浸沒時間，徹底去除ITO表面引線間玻璃上的污染物并使ITO剛剛露出新鮮的表面。這樣清潔處理后再在ITO表面進行鎳層和金層沉積時，鎳層和金層只沉積于ITO表面，而在其它地方無法沉積，這就消除了因基片表面污染而造成的產品缺陷問題，大大提高了采用化學鍍鎳鍍金方法制造Sensor產品的良率。同時因鎳層和金層是沉積于新鮮的ITO表面，而非臟或異物表面，這樣鎳層和金層與ITO之間的結合力非常強，不會產生鎳層和金層與ITO之間脫落問題，產品使用的耐久性可以得到保證。
【專利說明】ITO表面化學鍍鎳鍍金前表面清潔的方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種觸摸屏生產方法，尤其是一種生產過程中使用的清潔方法，具體地說是一種ITO表面化學鍍鎳鍍金前表面清潔的方法。
【背景技術】
[0002]電容式觸控屏主流生產工藝是用磁控濺射的方法在ITO表面制造鑰鋁鑰金屬層。鑰鋁鑰ITO鍍膜玻璃是在真空狀態下以磁控濺射的方法在玻璃正反表面鍍上ITO導電膜，然后再在浮法面鍍上鑰、鋁、鑰金屬膜層。其主要特性膜層接全力強，玻璃表面均勻好，在可見光內反射光強。但此種工藝設備投資大，生產效率也有待提高。
[0003]日本美祿德公司開發了一種用化學鍍鎳鍍金工藝在ITO表面沉積鎳層和金層來制造電容觸控屏Sensor的方法，此方法生產工藝簡單，設備投資也很少。其生產工藝為脫脂一二次去離子水清洗一微蝕一二次去離子水清洗一催化一二次去離子水清洗一活化一二次去離子水清洗處理一化學鍍鎳一二次去離子水清洗一化學鍍金一二次熱去離子水清洗。制造Sensor的玻璃從ITO鍍膜到刻蝕好ITO引線生產過程中表面不可避免地會受到各種污染，美祿德公司提供的工藝中其脫脂工藝只能去除輕微的油脂污染，對其它污染物基本去除不掉。如果在鍍鎳鍍金前不去除玻璃表面的污染物及露出新鮮的ITO表面，鎳層和金層沉積時失去選擇性，會在ITO表面和受到污染的玻璃表面都沉積上鎳層和金層，且鎳層和金層與ITO之間的附著力會很差，則Sensor制造失敗。因此在脫脂工藝前增加一道清潔基片表面的工藝必不可少。
[0004]合適的清洗溶液有`以下幾點要求；
I)清潔溶液對玻璃及ITO表面的刻蝕具有一定的選擇性，即刻蝕玻璃表面與ITO表面的化學反應速率相差5倍以上。這樣用清潔溶液處理基片時玻璃表面的臟及異物可以被徹底去除，而ITO表面則只發生了輕微的刻蝕反應，剛剛露出新鮮的ITO表面而已。
[0005]2)所配的清潔溶液刻蝕玻璃表面的化學反應速率可控，不能太快或太慢；清潔溶液同時要滿足基本對ITO下方的玻璃不產生側向刻蝕。
[0006]3)所配的清潔溶液中需含有緩沖劑，這樣在處理一定數量基片時清潔溶液對玻璃表面的刻蝕速率可以基本保持一致，避免生產中需頻繁調整清潔液濃度。
